鋁陽極氧化膜的多孔性結(jié)構(gòu)賦于了其各種獨(dú)特的功能 , 具有遠(yuǎn)大的應(yīng)用前景, 由于涉及面太廣, 本文擇要示例說明 :

1 鋁陽極氧化膜在垂直磁記錄盤上的應(yīng)用

　　垂直磁記錄盤比水平磁記錄盤的磁記錄密度高。國外已研究多年 , 日本在這方面的研究比較成功 。日本輕金屬株式會社認(rèn)為高純Al -4 Mg 合金在鉻酸中的陽極氧化膜具有最佳的綜合性能。表面平整性好 , 硬度適當(dāng), 能承受300 ～ 400 ℃高溫而不開裂 。用濺射法或電鍍法將磁性介質(zhì)沉積在膜中 。這種高密度磁盤已在日本使用多年。日本佐藤敏彥教授認(rèn)為 :垂直記錄磁盤開發(fā)為商用磁盤尚需時(shí)日。

　　2 鋁陽極氧化膜在超微過濾介質(zhì)方面的應(yīng)用

　　鋁的多孔型膜作為超微過濾介質(zhì)的研究在國外已獲重大進(jìn)展 。眾所周知, 氧化膜的孔徑和結(jié)構(gòu)可以通過陽極氧化的工藝參數(shù)來控制, 孔徑在10 nm 和250 nm 之間, 孔的密度可達(dá)108 ～ 1011 / cm2 。而膜厚可以超過10 μm , 因此在超微過濾方面成為多孔型無機(jī)物膜的理想材料 。其關(guān)鍵是如何將多孔膜與金屬基體分離開來。分離過程可在相同電解液中進(jìn)行, 并采用控制電壓下降法實(shí)現(xiàn)。

　　3 其它功能性鋁陽極氧化膜的應(yīng)用

　　近年來鋁陽極氧化功能膜較為矚目的有①光電功能;②催化功能 ;③傳感功能和 ④分離功能, 光電功能有場致發(fā)光、光致發(fā)光和場致變色等。鋁合金成分、氧化工藝和發(fā)光層處理 。加強(qiáng)各道工序漂洗, 經(jīng)常更換浸泡用熱水, 可以大大減少因后處理不當(dāng)而產(chǎn)生的起泡現(xiàn)象。此外, 還需嚴(yán)格控制老化溫度 , 否則溫度過高, 鍍層與基體因熱脹冷縮差異太大而起泡 。